光谱实验室 首页 > 仪器设备 > 光谱实验室 > 正文 近常压X射线光电子能谱仪 仪器编号： 联系人：陈中 联系方式：18998382617 地址：西湖大学（云谷校区）E10-127 开放范围：自主操作：校内；委托测试：校内、校外 Independent-operation ：Internal ； Commissioned Service ：Internal/External 机时预约 送样检测 仪器详细信息 标准操作规程（SOP）和样品要求 收费标准 仪器编号 规格 生产厂家 SPECS+(PHI) 型号 NAP-HAXPES+(PHI GENESIS) 制造国家 中国 China 分类号 放置地点 E10-127 出厂日期 2025/01/09 购置日期 2024/10/11 入网时间 2025/01/09 主要规格及技术指标 "1 分析腔配备分子泵以及前级泵，经过72小时烘烤及48小时降温后，真空优于5×10-9 mbar2 快速进样腔配备分子泵和无油干泵（前级泵），经过72小时烘烤及48小时降温后，真空优于5×10-8 mbar3 工作压力最大可达25 mbar4 Ag 3d峰计数率：在UHV条件下，可保证验收指标为70 kcps，；在10 mbar N2条件下，可保证验收指标为7 kcps，在25 mbar N2条件下，可保证验收指标为0.5 kcps，5 Al/Ag/Cr 三个靶正常切换，测试XPS正常6 四轴样品架移动范围：X = ±12.5 mm， Y = ±12.5 mm，Z 方向范围随系统配置，P = ±180° polar（极角）7 配备150 W红外激光加热器，在25 mbar N2条件下，样品温度最高可达1000 ℃；8 配有液氮冷却，样品最低温度可到150 K9 荷电中和功能测试：能量范围为1 eV-500 eV；束流可达1 mA；配备自动荷电中和软件包，自动调节。10 离子刻蚀功能测试：能量范围为200 eV-5 keV，束斑尺寸最小可达125 μm，束流0.4 μA/ 3 keV；大光斑模式下离子束流：保证指标7 μA @ 5 keV，可达到指标8μA@5keV；配备深度剖析自动控制软件包。11 残余气体分析质谱仪，质量范围，1-200amu12 近常压电化学XPS测试：配备三电极和两个电解液管道，动态电化学反应，实现固液界面电化学反应的实时测试；样品放置在四轴样品架上；气压范围：2-1000 mbar。13 手套箱测试：单工位2个手套设计，配备有气体净化系统，残余氧气、水含量＜1ppm；工作压力调节范围：±15mbar；" 主要功能及特色 "原位反应过程监测反应气氛下的实时监测：可在一定压力的气体环境中，对材料表面在特定反应气氛下的动态变化进行原位监测，如在催化反应过程中，实时观察催化剂表面的化学成分和电子结构的变化。原位分析室气压范围宽，从超高真空到25 mbar均可调节，且可引入氧气、水蒸气、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、氢气等非腐蚀性气体，为不同反应条件下的样品研究提供了灵活的气氛控制环境。温度控制下的反应研究：配备红外激光加热器等装置，可在不同温度条件下进行样品的加热处理，并在加热过程中实时监测样品表面的化学变化，研究温度对表面反应的影响。气固、液固界面研究气固界面分析：适用于研究气固界面的相互作用，如气体在固体表面的吸附、解吸过程，以及气体与固体表面发生的化学反应等，可为催化、表面化学等领域提供重要的实验数据。液固界面研究：突破了传统XPS只能在超高真空环境下工作的限制，能够对液态环境下的固体表面进行研究，如研究液体中的物质在固体表面的沉积、吸附等过程，对于生物医学、材料科学等领域的研究具有重要意义。深度剖析与界面分析深度剖析：配合离子束剥离技术，可对样品进行逐层剥离，从而获得元素的组成、百分比及化学环境随深度的变化关系，实现对薄膜材料等的深度分析。界面分析：通过变角XPS技术等手段，能够对材料的界面进行分析，研究界面处的元素分布和化学状态，对于多层膜材料、复合材料等的界面研究具有重要作用。" 待上传...... 待上传......
